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蔵書情報

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所蔵数 1 在庫数 1 予約数 0

書誌情報サマリ

書名

入門フォトマスク技術 

著者名 田邉 功/著
著者名ヨミ タナベ イサオ
著者名 竹花 洋一/著
著者名 法元 盛久/著
出版社 工業調査会
出版年月 2006.12


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No. 所蔵館 資料番号 資料種別 帯出区分 請求記号 配架場所 状態 書庫状態
1 中 央9103761491一般帯出可549.7//2階開架在庫 

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2006
549.7

書誌詳細

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タイトルコード 1000610109432
書誌種別 図書
書名 入門フォトマスク技術 
書名ヨミ ニュウモン フォトマスク ギジュツ
副書名 LSI,FPD,PWB,MEMSのためのフォトマスク
著者名 田邉 功/著
著者名 竹花 洋一/著
著者名 法元 盛久/著
出版社 工業調査会
出版年月 2006.12
ページ数  (枚数) 323p
大きさ 21cm
分類記号 549.7
内容紹介 半導体ならびに電子部品分野の技術に関係している方々を対象に、マスク技術に関する基本的な項目、内容を網羅した参考書。半導体デバイスのみならず、FPDとPWB、ならびにMEMSで使用されるマスクについても記述。
著者紹介 千葉大学工学部工業化学科写真映画専攻卒業。(有)ITコンサルティング代表取締役社長。
件名1 リソグラフィー



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